山东泉芯是我国的一家晶圆代工厂，其与另一家晶圆代工厂武汉弘芯存在一定的关系，而武汉弘芯因为资金问题使得从ASML购买到的光刻机也处于质押状态。
根据上述的简要报道，从台积电跳槽至泉芯的两位人员是周姓主管和吴姓主管，周姓主管是蚀刻领域的特殊技术人才，吴姓主管是扩散部的。
两人均有多件专利申请，也就是两位都是发明人。
泉芯的全名为泉芯集成电路制造(济南)有限公司，检索其国内有17件专利申请且均申请于今年，最早的专利申请日为8月31日。
在其17件专利申请的数十位发明人中，没有一位是吴姓，但有一位周姓。
周姓发明人对应的专利申请号为.4，该专利公开于年11月10日，距今也就20天，这非常有可能是台积电发现的线索来源，因为泉芯从台积电挖了不少人，则台积电必然在监控的。
在该专利文本的背景技术中描述“图形拆分是将一套高密度的电路设计版图分解为多套独立低密度图形的流程设计，而后可以采取多次曝光和多次刻蚀将电路图形转移至晶圆，以避开高密度电路线宽过于紧密的光学极限。”，也就是说这件专利属于蚀刻领域。
检索该周姓发明人的其他专利，其在台积电也申请过专利（专利号.4），该专利申请于年，这是蚀刻技术的早期核心专利。
该专利的发明人还有一位牛人林本坚，他是在ASML的极紫外光光刻机之前使摩尔定律能够延续的人，可以说是他的技术让台积电能成为如今的半导体制造领域的霸主，能一定程度上印证该吴姓发明人确实是一位蚀刻技术的老一辈技术人才。
奇怪的是周姓发明人在之后没有专利申请，直到在泉芯才申请专利，为泉芯带来了创新和技术。
但泉芯却未能很好的保护周姓发明人，虽然职务发明是离职后一年期限，但竞业限制是有最长两年期限的。
如果真因为违反竞业限制，则可能还附加侵犯商业秘密，侵犯商业秘密是可能构成刑事犯罪的。